真空氣氛爐（Vacuum Atmosphere Furnace）是一種集真空技術與氣氛控制于一體的工業熱處理設備，通過創造真空或特定氣體環境（如氮氣、氬氣、氫氣等），在高溫下對材料進行燒結、退火、熔融等工藝處理。其工作原理與結構如下：

　　1、真空系統：

　　通過旋片泵或分子泵抽除爐內氣體，形成低真空（10?1Pa）至高真空（10??Pa）環境。

　　真空度可調，適應不同工藝需求（如硬質合金燒結需10?2Pa，半導體退火需10??Pa）。

　　2、氣氛控制系統：

　　支持氮氣、氬氣、氫氣等氣體通入，通過質量流量控制器（MFC）準確調節氣體比例和流速。

　　典型應用：

　　氫氣氣氛：用于金屬還原處理（如鎢絲爐需氫氣保護）。

　　氮氣氣氛：氮化物陶瓷（如氮化鋁）燒結。

　　氧氣氣氛：透明鐵電陶瓷燒結。

　　3、加熱系統：

　　采用硅碳棒、硅鉬棒或高溫電阻絲作為加熱元件，zui高溫度可達1800℃。

　　配合熱電偶反饋和PID控制器，實現多段程序升溫（如升溫→保溫→降溫）。

　　4、爐體結構：

　　爐膛：輕質氧化鋁陶瓷纖維材料，耐高溫、絕熱性能優異。

　　密封設計：雙層水冷殼體+硅橡膠密封圈，確保真空度穩定。

　　冷卻系統：風冷+水冷聯合降溫，縮短冷卻時間。